Høj ren grafitmuffe

Høj ren grafitmuffe er almindelige mekaniske dele i industrien og bruges ofte i høj-temperatur, høj-præcision og ætsende industrielle scenarier, såsom halvlederfremstilling, fotovoltaisk enkelt krystalsiliciumvækst, metalsmeltning og vakuumvarmebehandling.

Send forespørgsel

Produktbeskrivelse

I halvlederfremstillingsprocessen skal dens udstyr fungere i lang tid ved en høj temperatur på mere end 1200 grader. Høj ren grafitmuffe kan ikke kun modstå ekstrem stress, men undgår også metal urenheder fra at forurene skivere. Sammenlignet med andre materialer har grafitmuffer med høj renhed har stærkere termisk stødmodstand, forlænger levetiden og reducerer udstyrets vedligeholdelsesfrekvens.

Når højren grafitmuffe bruges i fotovoltaiske enkeltkrystallsiliciumovne, hjælper deres retningsledelseseledningsegenskaber med at nøjagtigt kontrollere temperaturgradienten for siliciumsmeltning og derved sikre den aksiale produktionshastighed for enkeltkrystallsiliciumstænger og reducere defekthastigheden for siliciumkrystaller.

Høj ren grafitmuffe er også vigtige komponenter inden for det metallurgiske felt, såsom deres anvendelse i titanlegeringsvakuumsmeltovne. Dens kemiske inertitet undgår smeltekontaminering; Dens fremragende selvsmørt egenskab gør det muligt for den roterende mekanisme at køre glat under oliefri smøreforhold, hvilket sikrer ensartet smeltesammensætning. Sammenlignet med keramiske bøsninger har grafitærmer stærkere termisk chokresistens.

Årsagen til, at mange industrielle felter vælger at bruge høj ren grafitmuffe, skyldes hovedsageligt dens høje styrke, lave termiske ekspansionskoefficient, kemisk inertitet og elektrisk ledningsevne. Disse egenskaber arbejder sammen for at imødekomme de strenge krav i moderne industri for præcisions termisk udstyr.

20250308190751